Equipment for analysis

1. Time of flight secondary ion mass spectrometer IONTOF SIMS5 (ION-TOF GmbH, Germany) — 2007 .
2. Secondary ion mass spectrometry IMS-4F (CAMECA, France) — 1986.
   
3. Transmission electron microscope Tecnai G2 F20 U-TWIN (FEI, Netherlands) — 2009 .
4. Double beam FIB-SEM system Quanta 3D 200i (FEI, Netherlands) — 2011 .
5. Auto-emission scanning electron microscopy with nanostructure diagnostic complex Supra 40 (Carl Zeiss, Germany) with annex INCAx-act (Qxford Instruments) — 2008 .
6. Electron microscope LEO 430 SEM (Carl Zeiss, Germany - Great Britan) — 1992 .
7. 3D-nanoprobe system «GPI- Cryo-SEM» — scanning tunnel microscope based on SEM  Supra 40 vacuum system with sample preparing system (Proton, Russia) — 2009 
8. Class of scanning probe microscopes CMM-2000 and profilometers model 130 (Proton, Russia) — 2008 .
9. Auger spectroscopy PHI-660 (Perkin-Elmer, USA) — 1987 .
10. IR Fourier IFS-113v (Bruker, Germany) — 1988 .
11. Measurement complex Oriel I-V (Newport, USA) — 2009 
12. X-Ray diffractometer ARL X'tra (Thermo Fisher Scientific, Swiss) — 2010 .
13. Electron paramagnetic resonance spectrometer Adani CMS 8400 (Adani, Belarus) — 2011 .

Technological equipment

1. Ion implanter K2MV with RBS-analysis system (НVЕЕ, Netherland)— 1989
2. Plasmochemical deposition device MINI GOUPYL (Alcatel, France) — 1989 .
3. Plasmochemical etching and deposition device Plasmalab 100 (Qxford Instruments) — 2012 .
4. Raman analyzer EnSpectr R532 (EnSpectr, Russia) — 2011 
5. Alignment and exposure device SUSS MJB4 (SUSS MicroTec, Germany) - 2012 .
6. Magnetron sputter "Oratorio 22" with a set of controls gas flow MKS (1179A - 4 pcs.) With four-channel control unit (247D).
7. Magnetron sputter "Oratorio 5" with a set of controls gas flow MKS (1179A - 4 pcs.) With four-channel control unit (247D).