MINI GOUPYL

Установка предназначена для нанесения на подложки диэлектрических и полупроводниковых аморфных пленок в плазме низкочастотного разряда из газовой фазы.

Характеристики:

Частота источника электрической мощности: 55 кГц
Мощность источника: 900 Вт
Режим работы источника: непрерывный или пульсирующий.
Температура осаждения: от комнатной до 400 0С
Число газовых линий для подачи прекурсоров: 7.
Рабочее давление газовой смеси: от 50 Па до 1000 Па
Толщина подложек: до 1 мм
Размер подложек: до 125 мм.
Одновременное осаждение на: 6-12 подложек диаметром 100 мм.